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Grundlagenseminar Optikentwicklung mit ZEMAX / OpticStudio
INHALTE:
Grundlagen der geometrischen Optik (Paraxiale Optik und Aberrationen 3. Ordnung) Einführung in die Bedienung von ZEMAX® OpticStudio Beschreibung optischer Systeme in ZEMAX®... |
26.04.2017 - 28.04.2017 | externe Veranstaltung |